Китайский Huawei зарегистрировал патент на фотолитографическую установку собственной конструкции, позволяющую теперь выпускать телекоммуникационному гиганту отечественные процессоры с проектной нормой менее 10 нанометров (нм). Об этом сегодня пишет «Российская газета» ссылаясь на журнал «Стимул».
Фотолитография в производстве микроэлектронике транспонирует то или иное изображение на кремниевую подложку, после чего возникает требуемая типология микросхемы. Масштаб отображенных элементов такого рисунка напрямую зависит от длины волны излучения.
До настоящего времени монополистом в данной отрасли производства литографической техники была голландская компания ASML. В свое время, по указке из США, фирма ввела против Huawei санкции, отказав в поставке оборудования китайцам. Таким образом, Белый дом попытался искусственно ограничить развитие микроэлектронной отрасли в КНР.
Невзирая на возникшие сложности, в Huawei не опустили руки. За короткое время в стенах корпорации разработали отечественный литограф. Его технические возможности теперь дают возможность отвязаться, в плане технологической зависимости, от диктата Запада и начать выпуск собственным микропроцессоров.
Между тем в Институте прикладной физики Российской академии наук также полным ходом идет работа по созданию отечественной установки литографии для производства микропроцессоров по современным технологическим процессам. На сегодняшний день создана демонстрационная установка, на которой получены изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм (пока в нашей стране, в промышленных масштабах, способны работать лишь с микроструктурами в 65 нанометров). В следующем году в России должна появиться «альфа-машина», способная проводить полный цикл операций. Однако акцент на этапе «альфа-машины» будет сделан не на высокую скорость работы оборудования или разрешение, а на полноценную реализацию всех систем. На втором этапе, к 2026 году, планируется появление «бета-машины». Системы будут улучшены и усложнены, увеличится разрешение, повысится производительность, многие операции будут роботизированы. Наконец, на третьем этапе (2026–2028 годы) отечественный литограф получит более мощный источник излучения и модернизированные системы позиционирования и подачи.
