В конце 2023 года китайская фирма Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) намерена выпустить первую литографическую машину для производства микрочипов с техпроцессом 28 нм. Об этом пишут «Известия».
Для полупроводниковой индустрии КНР это огромный прорыв: литография была одним из ее уязвимых мест. Хотя и новое оборудование будет по-прежнему отставать от наиболее современных аналогов в других государствах, быстрый прогресс китайской микроэлектронной промышленности очень кстати из-за нарастающего прессинга со стороны иностранных поставщиков.
В публикации «Известий» указывается, что в октябре минувшего года Америка приняла решение о введении беспрецедентных рестрикций против полупроводниковой индустрии Поднебесной. По замыслу Белого дома это были намного более жесткие ограничения, чем все те санкции, что вводилось в отношении Китая в период «торговых войн» администрации Дональда Трампа в 2017–2019 годах. В них был включен запрет на поставку оборудования и программного обеспечения для производства полупроводников, а также отзыв специалистов, трудившихся непосредственно в китайских компаниях индустрии или же торгующих с ними.
Сами Соединенные Штаты ‒ важный игрок на рынке микрочипов, но далеко не единственный: мощь Японии, Южной Кореи, Тайваня и Нидерландов на этом направлении сопоставима, если не более высока. С 2022 года американцы осуществляют работу с этими государствами, стараясь принудить их к разрыву отношений с Китаем в данной сфере. И Вашингтону удалось кое-что: к примеру, серьезные ограничения на экспорт продукции полупроводниковой индустрии ввело Токио.
Рестрикции Соединенные Штаты ввели в момент прорыва в самой китайской полупроводниковой индустрии. Летом 2022 года распространилась информация, что флагман микроэлектроники КНР Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC) сумела овладеть производством микрочипов на техпроцессе 7 нм, то есть всего на одно поколение позади текущего передового. К сведению ‒ большинство современных смартфонов, кроме самых мощных, выпускаются с микросхемами 7 нм, что делает КНР одним из лидеров глобального полупроводникового сектора.
Но главная проблема Пекина в данный момент времени ‒ не выпуск микросхем, а «производство средств производства» для них. Это еще более монополизированный клуб. Ключевым фактором здесь выступают машины для ультрафиолетовой фотолитографии, которые наносят рисунок на плату. Технологией производства машин экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) владеет пока только нидерландская компания ASML. EUV позволяет выдавать техпроцессы 7 нм и меньше, то есть без нее невозможен выпуск наиболее продвинутых, современных и мощных чипов.
КНР заметно отставала именно в данном секторе. Единственным производителем таких аппаратов в стране являлась шанхайская SMEE, начавшая деятельности в 2002 году. До последнего времени наиболее современным техпроцессом, в котором могло работать производимое SMEE оборудование, был 90 нм. И вот в данный момент времени, судя по заявлениям СМИ Китая, компании удался прыжок сразу через три поколения. Процесс 28 нм считался наиболее продвинутым в 2010–2011 году: на чипах 28 нм основаны, к примеру, российские процессоры «Эльбрус». Успех SMEE следует признать крупным, поскольку создание литографических машин ‒ это хайтек среди хайтека.
