К 2030 году в РФ могут начать выпускать отечественные литографы. Это произойдёт, если дорожная карта ИФМ РАН и НЦФМ будет одобрена. Об этом проинформировал главный разработчик прорывного российского литографа Николай Чхало.
«В рамках этой «дорожной карты» на первый этап — разработка критических технологий рентгеновской литографии – мы выделяем 2 года. Это значит, что альфа-машина будет сделана на протяжении двух лет после начала работ», – поведал физик в интервью с изданием «Газета.Ru».
Он добавил, что на ней учёные планируют получить через два года разрешение проекционного объектива сразу 32-28 нм. После чего все основные элементы литографа будут протестированы в реальном масштабе.
По словам Николая Чхало, второй этап тоже займёт два года. В его рамках эксперты собираются сделать бета-машину, ориентированную на массовое производство, рисование чипов.
В заключение эксперт рассказал, что выпуск рабочих литографов ожидается к 2030 году. Он сможет выпускать чипы 28 нм, а потом 14 нм и 12 нм.
