Новый метод PPPL делает процесс производства микрочипов эффективнее


Ученые Принстонской лаборатории физики плазмы попытались создать микрочип электроники, для чего прибегли к травлению атомного слоя кремнием попеременным воздействием двух компонентов: газообразным хлором и ионами аргоновой плазмы.

При травлении атомного слоя таким путем, эксперты удаляли отдельные атомные слои.

По словам ученых, использовать эти процессы можно только при вытравливании в пленке на пластине из керамики непростых трехмерных структур с маленькими размерами. Эти размеры в тысячи раз тоньше человеческого волоса.

Подписка на FBM.RU в Telegram - удобный способ быть в курсе важных экономических новостей! Подписывайтесь и будьте в центре событий. Подписаться.

Добавьте FBM.ru в избранные новости Добавьте FBM в избранные новости

Оценить новость
( 2 оценки, среднее 4 из 5 )
Виктория Михнова/ автор статьи
FBM.ru - Финансы  Бизнес Маркетинг