В МФТИ сделали шаг к улучшению устройств памяти


Как стало известно порталу FBM.ru  – сотрудники лаборатории  научного института МФТИ, который находиться в городе Долгопрудный Московской области,  вместе с коллегами из Южной Кореи, изучили как влияют дефекты поверхности одного из электродов на свойства ячейки резистивной памяти.

Как выяснилось, если увеличивать толщину электрода, то зернистость его поверхности резко возрастает, а параметры ячейки памяти заметно становятся лучше.

Запоминающие устройства на основе переключения сопротивления обладают значительными преимуществами перед теми, что используются в наши дни в 2020 году.

Стало ясно, что напряжение, разность сопротивлений в разных состояниях и другие параметры зависят от вещества находящегося между электродами.

 

Добавьте FBM.ru в избранные новости Добавьте FBM в избранные новости

Оценить новость
( Пока оценок нет )
Наталья/ автор статьи
FBM.ru - Финансы  Бизнес Маркетинг