Группа исследователей из Массачусетского технологического института (MIT) провела исследование, доказавшее, что кубический арсенид бора превосходит кремний в качестве сырья для производства микросхем. Они назвали его “лучшим материалом для полупроводников из когда-либо найденных”.
По словам исследователей, кубический арсенид бора является в 10 раз более эффективным проводником тепла, чем кремний. Он также лучше проводит электроны и электронные дырки, что особенно важно для характеристик полупроводников.
В исследовательскую группу, открывшую материал, также входил Ган Чен, бывший заведующий кафедрой машиностроения Массачусетского технологического института, которого подозревали в шпионаже в пользу КНР, но Министерство юстиции США позже сняло обвинения за недостаточностью улик.
Хотя о коммерческом применении арсенида бора пока не говорят, этот материал позволит создавать более совершенные, быстрые и компактные чипы, чем сегодня.
